大家好，来看一则突发消息。

　　美光公司(sī)在华销售的产品未通过网络安(ān)全审查(chá)

　　据网信办消息，日前，网络安(ān)全审查办公室依法对美(měi)光公司在华销(xiāo)售产品进行了网络(luò)安(ān)全(quán)审查。

　　审查发(fā)现，美(měi)光公司产品存(cún)在较(jiào)严重网(wǎng)络安(ān)全问题隐患(huàn)，对我(wǒ)国(guó)关键信息基础设施供应链造成重大安全(quán)风险(xiǎn)，影响我国国家安全。为此，网络安全审查办公(gōng)室依(yī)法作出不予通过网络安全审查的(de)结论。按照(zhào)《网(wǎng)络安全法》等(děng)法(fǎ)律法规，我(wǒ)国内关(guān)键(jiàn)信(xìn)息(xī)基础(chǔ)设施的(de)运营(yíng)者(zhě)应停止采购(gòu)美(měi)光公(gōng)司(sī)产品。

　　此次对(duì)美光(guāng)公(gōng)司(sī)产品进(jìn)行网络安(ān)全审(shěn)查，目的是防范产品网络安全问题危(wēi)害国家关键信息基础设施(shī)安全，是维护国家安全的必要措施(shī)。中国(guó)坚定(dìng)推进(jìn)高(gāo)水(shuǐ)平对外开放，只要遵(zūn)守中国法律法(fǎ)规(guī)要求(qiú)，欢(huān)迎各国企业、各类(lèi)平台产(chǎn)品服(fú)务进入中国市(shì)场。

　　3月31日(rì)，中国网(wǎng)信网发文称，为保障(zhàng)关键信息基础设(shè)施供应链安全，防范产品问题隐患(huàn)造成网络(luò)安(ān)全风险，维护国家安全，依据《中华人(rén)民共和国国家(jiā)安全法》《中华人民共和国网络安全法(fǎ)》，网络安全审(shěn)查办公室按照(zhào)《网络(luò)安全审查办法(fǎ)》，对美光公司(sī)（Micron）在华销售的产品实施网络安全(quán)审(shěn)srds是什么意思，srds是什么意思啊查(chá)。

　　美光是美(měi)国(guó)的存储(chǔ)芯片(piàn)行(xíng)业龙头，也(yě)是全球存(cún)储芯片巨头之一，2022年srds是什么意思，srds是什么意思啊收入来(lái)自中(zhōng)国(guó)市场收入从(cóng)此前高峰57％降至2022年约11％。根据市场(chǎng)咨询(xún)机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电(diàn)子、 铠侠、西部(bù)数(shù)据(jù)、SK 海力士、美(měi)光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份(fèn)额约为 96.76％，三星电子(zi)、 SK 海力士、美光在(zài)全(quán)球 DRAM （内存）市场份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上市公司(sī)中，江波龙、佰维(wéi)存储等公司披露过美(měi)光等国际存储厂商为公司供应商。

　　美光在江波龙采购(gòu)占(zhàn)比已经显著下降(jiàng)，至少已(yǐ)经不是(shì)主(zhǔ)要大供应商。

　　公告显示， 2021年美光位列江波龙第一大存储晶(jīng)圆供应(yīng)商，采购约31亿元，占比(bǐ)33.52％；2022年，江(jiāng)波龙(lóng)第(dì)一(yī)大、第二大和第三大供(gōng)应商采(cǎi)购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在(zài)存(cún)储产业链上下游建(jiàn)立国内外广(guǎng)泛合作。2022年(nián)年报显(xiǎn)示，江(jiāng)波龙与三星、美光(guāng)、西部数据等主要(yào)存储(chǔ)晶圆原厂签署了长期合约，确保存储(chǔ)晶圆(yuán)供应(yīng)的稳(wěn)定性，巩固公司在下游市场的供(gōng)应优势，公司也与(yǔ)国内国(guó)产存储晶(jīng)圆原厂武汉长江存储、合肥长鑫保持(chí)良(liáng)好的合作(zuò)。

　　有券商(shāng)此前就分析，如果美(měi)光在中国区(qū)销售(shòu)受到限制，或将导致下游客户(hù)转而采购(gòu)国外三星、 SK海(hǎi)力士，国内长江存储、长鑫存储(chǔ)等竞(jìng)对(duì)产品

　　分析称(chēng)，长存、长鑫的上游(yóu)设备厂或从中受益。存储器的生(shēng)产已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至(zhì)1Znm的工艺。另(lìng)外(wài)NAND Flash现在已经进入(rù)3D NAND时代，2 维到3维的结构转变使(shǐ)刻蚀和薄膜成为(wèi)最关键、最大量的加工(gōng)设备。3D NAND每(měi)层(céng)均需(xū)要经过薄膜沉积工艺步骤(zhòu)，同(tóng)时刻蚀目前(qián)前沿要刻到 60：1的深孔，未来可能会(huì)更深的孔或者沟槽(cáo)，催生更多(duō)设备需求。据东京电子披露，薄(báo)膜沉(chén)积(jī)设备及刻蚀占3D NAND产线资本开支合计为75％。自长江存储(chǔ)被(bèi)加入(rù)美(měi)国限制名单，设备国(guó)产(chǎn)化(huà)进(jìn)程(chéng)加速(sù)，看好拓荆科技（薄膜沉积(jī)）等相关公(gōng)司份(fèn)额(é)提升(shēng)，以(yǐ)及存储业(yè)务占比较(jiào)高的华(huá)海清科（CMP）、盛美上海(hǎi)（清洗）等收(shōu)入增长。

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