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北京亦庄开发区属于哪个区的 北京亦庄是几环

北京亦庄开发区属于哪个区的 北京亦庄是几环 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来(lái)看一则突(tū)发消(xiāo)息。

  美(měi)光(guāng)公司(sī)在华销售的产品未通(tōng)过(guò)网络安全(quán)审查(chá)

  据网信办消息,日前,网络安(ān)全审(shěn)查办公室(shì)依法对(duì)美(měi)光公司在华(huá)销(xiāo)售产品(pǐn)进行了网(wǎng)络(luò)安全审(shěn)查。

  审查发(fā)现,美(měi)光公司(sī)产品存在较严重网络安(ān)全问题(tí)隐(yǐn)患,对我国关键(jiàn)信息基础设(shè)施供应(yīng)链造成(chéng)重(zhòng)大(dà)安全风险(xiǎn),影响我国国(guó)家安全(quán)。为此,网(wǎng)络安全审查(chá)办公室依法作出不予通过网络安全审查(chá)的结(jié)论。按(àn)照《网络安全法》等法律法规,我(wǒ)国内关键信息基础(chǔ)设施的运营者(zhě)应停止采购美光公司产品。

  此次对美光公司产品进(jìn)行网络安全审查,目的是(shì)防范产品网络安(ān)全问题危害国家关键信息(xī)基础(chǔ)设施安全,是维(wéi)护(hù)国家安全(quán)的必(bì)要措施。中国坚定推进高水(shuǐ)平对(duì)外(wài)开放,只要遵守中国法律法规要求,欢迎各国企业、各类平(píng)台产品(pǐn)服务进入中国市场。

  半导(dǎo)体突发(fā)!中国出手:停止采购(gòu)!

  3月31日,中国网信网(wǎng)发文(wén)称,为(wèi)保(bǎo)障关键信(xìn)息(xī)基础设施(shī)供应链(liàn)安全,防范产品问(wèn)题隐患(huàn)造成网(wǎng)络安(ān)全风险,维(wéi)护国家安(ān)全,依据《中华人(rén)民共(gòng)和国国家安全法》《中华(huá)人(rén)民共和国网络安全法》,网络安全审查办公(gōng)北京亦庄开发区属于哪个区的 北京亦庄是几环室按照《网(wǎng)络安全审(shěn)查办法》,对美(měi)光公司(Micron)在(zài)华销售的产品实施(shī)网络安全审查。

  半导体突发(fā)!中(zhōng)国(guó)出手:停止采购!

  美光是美国的存储芯(xīn)片北京亦庄开发区属于哪个区的 北京亦庄是几环行业龙头(tóu),也(yě)是全球存(cún)储芯片巨(jù)头(tóu)之一,2022年收(shōu)入来自中国市场收(shōu)入从此前高峰57%降至2022年约11%。根据市场咨询(xún)机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠(kǎi)侠、西部数据、SK 海力士(shì)、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪(shǎn)存)市场份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美(měi)光在全球(qiú) DRAM (内存)市场份额约为 94.35%。

  A股(gǔ)上市(shì)公司中,江波龙、佰(bǎi)维存储(chǔ)等公司(sī)披(pī)露过(guò)美光等国际存储厂商为公司供(gōng)应商。

  美光在江波(bō)龙采购占比已经显著下降,至少已经(jīng)不是主要(yào)大(dà)供(gōng)应商。

  公告(gào)显示(shì), 2021年美光位列(liè)江波(bō)龙第一大存储晶圆供应商,采购约31亿元(yuán),占比(bǐ)33.52%;2022年,江波龙第一大、第二大和(hé)第三大供应(yīng)商采(cǎi)购金额(é)占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙(lóng)已经(jīng)在存储产业链(liàn)上下(xià)游(yóu)建立国内外广泛(fàn)合作。2022年年报(bào)显示,江波龙与三星(xīng)、美光、西部数(shù)据等主要存储晶圆原(yuán)厂签署了长期(qī)合(hé)约,确保存储晶圆供应(yīng)的(de)稳定(dìng)性,巩固公司(sī)在(zài)下(xià)游(yóu)市场的供应优势,公司也与国内国(guó)产存(cún)储(chǔ)晶圆原厂(chǎng)武汉长江存储、合肥长鑫保(bǎo)持良好的合作。

  有券商此前就(jiù)分析,如果美光在中国区(qū)销售受到(dào)限制,或将导致下游客户转而采购(gòu)国外三星、 SK海力士,国内长江存储、长鑫存储等(děng)竞对产品

  分析称(chēng),长(zhǎng)存、长鑫(xīn)的上游(yóu)设备(bèi)厂(chǎng)或从中受益。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另外(wài)NAND Flash现在已经进入3D NAND时代,2 维到3维的结构转变(biàn)使刻(kè)蚀和(hé)薄膜成为最关键、最大(dà)量的加工设(shè)备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺步骤,同时刻蚀目前前沿(yán)要(yào)刻到 60:1的深孔,未来(lái)可能会更(gèng)深的孔(kǒng)或者沟(gōu)槽,催生更多设(shè)备需(xū)求。据东京电子披露,薄膜(mó)沉积设备及刻(kè)蚀占3D NAND产线资本(běn)开支合计为75%。自长江存储(chǔ)被加(jiā)入美国限制(zhì)名单,设备国产化进程(chéng)加速,看好拓荆科技(薄(báo)膜沉积(jī))等(děng)相关公司份额(é)提升,以及存储业务占(zhàn)比较高的华海清科(kē)(CMP)、盛美上(shàng)海(清洗)等收入增长(zhǎng)。

 

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