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fe2o3是什么化学元素 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界(jiè)4月24日消息,国(guó)家知识产权局局长(zhǎng)申长雨(yǔ)在新闻(wén)发布(bù)会上表示,将统(tǒng)筹推进各类知识产权法(fǎ)律法规和制度(dù)规则的制修订工作。其中,修(xiū)改(gǎi)完善集成(chéng)电路布图设计保护条例,适(shì)应(yīng)大规模集成(chéng)电路发(fā)展(zhǎn)需要,助力芯片产业做(zuò)大做强,服务(wù)数(shù)字(zì)经济(jì)更好发展。

  加(jiā)强大数(shù)据、人(rén)工智能(néng)、基(jī)因(yīn)技术(shù)等新领域新业态知(zhī)识产权规则(zé)研究,助力相关领域创新发展。同时,积极(jí)参与(yǔ)知识产权国际(jì)规则制定(dìng),更(gèng)好fe2o3是什么化学元素(hǎo)对接高标(biāo)准国际经贸规则,助力高水平对外开放。

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